1樓：小愛談國際
水分解反應的條件要求一般是比較苛刻的，反應要跨越的能壘較高。你這個反應，在家裡做的話，雷射的波長，型別，強度都是反應式沒有給你的，而且反應的壓力和溫度有時候不是必要條件反應式也沒有告訴，而且光說鈦白粉中tio2的晶粒尺寸，純度作為催化劑對反應的進行都有影響。所以實際家庭化學試驗成功率不是很高的。
或者是其實你操作過程中其實已經有反應了，但是進行的太微弱以至於你觀察不到。
2樓：謹雲之靈
如果那麼簡單能源就不是問題了。
tio2的bandgap達到 想激發出tio2的電子與空穴需要波長小的光才行 雷射分很多種 雖然有些雷射波長也在紫外光波長範圍內。
另外即使激發出電子與空穴 在tio2內仍然極容易發生電子空穴再結合 限制了tio2的水分解能力。
還有tio2粉末也分為許多種 目前用於光催化的主要為tio2（p25）
現在研究方向主要將tio2與其他semiconductor進行doping 這樣降低了內部的電子空穴再結合率 使產生的e-與h+可以有效與水反應產氫與氧。
同時一般還要加入諸如亞硫酸鈉、甲醇等的犧牲劑。
3樓：網友
也許你的鈦白粉有過多的雜質，或者已經變質，而且你用的量也是問題，一般來說太多太少都是會抑制催化的。
4樓：夏信化汝
催化劑，如鈣和聯吡啶形成的配合物，它所吸收的陽光正好相當於水分解成氫和氧所需的能量。另外，二氧化鈦和含鈣的化合物也是較適用的催化劑。
二氧化鈦水解原理
5樓：網友
鈦液的水解機理十分複雜，其化學反敬巨集應式可以簡單規納如下：
1)ti(so4)2+h2o→tioso4+h2so42)tioso4+2h2o→h2tio3↓+h2so4上述化學反應式中(1)式幾乎不存在或存在很少，因為當工業生產中的鈦液f值小於時，溶液中應該以tioso4為主。從理論上來講只有不含遊離酸的中性水溶液中，tioso4才會全部水解生成h2tio3，而實際上不僅鈦液中含有大量遊離酸，並且在水解過程中還會釋放出遊離酸，因此鈦液的水解產物不僅是h2tio3,還有tioso4。如果把tioso4用tio2·so3來表示，把h2tio3用tio2·h2o來表示，鈦液水解的產物實際上是一系列含水並呀附一定量so3二氧化鈦膠體凝聚褲前物，其分子式應為tio2·xh2o·yso3,因此正確的名稱應是水合二氧化鈦，其中tio2、h2o、so3之間的關係，即x和y的數值要視水解條件、溶液中f值的高低而不同。
由於氫氧化鈦具有兩性特徵，且偏酸性，故可稱為鈦酸，其中ti(oh)4稱為a鈦酸或正鈦酸；tio(oh)2則稱為β鈦酸或偏鈦酸，通常人們為了記憶和書寫的方便，習慣上總把水合二氧化鈦稱為偏鈦酸，並書寫成h2tio3。
鈦液水解所生成的水合二氧化鈦中的h2o和so3,不是以化合狀態與二氧化鈦化學結合在一起的，而是以一種非常牢固的吸附作用而結合在一起，用水洗滌的方法很難全部除乾淨，工業上可以採取加熱煅燒的辦法，一般so3在700℃時即可除掉。水合二氧化鈦膠體具有很大的表面積，利用水合二氧化鈦的這種強烈地吸附作用，有人曾用偏鈦酸來吸附海水中的鈾，或用它吸附金屬雜質離子的能力來淨化其他溶液，如在鈦白粉生產中就可以用偏鈦酸來吸附硫酸鋁溶液中的鐵，用它淨化後的硫酸鋁溶液用於二氧化鈦胡稿清的表面處理。
能否解釋一下二氧化鈦催化分解水的機理？還有其他可以光催化分解水的物質嗎？
6樓：網友
光激發二氧化鈦中價帶的電子，電子收到激發躍遷到導帶，這個電子被稱為光生電子。相應的在價帶中會產生乙個光生空穴。
光生電子和空穴本身是分別具有還原性和氧化性，當它們擴散到表面，就會分別還原和氧化與表面接觸的水，還原產物是氫氣，氧化產物是氧氣。
其他任何半導體，它們的價帶和導帶的還原電勢滿足氧化和還原水的電勢點位的都可以光解水。如zno
求助，二氧化鈦作催化劑光解水的流程，哪位大大知道啊？
7樓：網友
是要原理的嗎？還是工藝流程。
原理的話大概是。
在標準狀態下若要把1 mol h2o分解為氫氣和氧氣，需237 kj的能量。以tio2為例，它的禁頻寬度為3·2 ev,在波長小於370 nm的光照下， tio2的價帶電子被激發到導帶上，產生高活性的電子-空穴對。受光源照射時半導體內載流子的變化。
電子和空穴被光激發後，經歷多個變化途徑，主要存在俘獲和複合兩個相互競爭的過程，光致空穴具有很強的氧化性，可奪取半導體顆粒表面吸附的有機物或溶劑中的電子，使原本不吸收光而無法被光子直接氧化的物質，通過光催化劑被活化氧化。光致電子具有很強的還原性，能使半導體表面的電子受體被還原，這兩個過程均為光啟用過程。同時遷移到體內和表面的光致電子和空穴又存在複合的可能，此為去啟用過程，對光催化反應無效。
水在這種電子-孔穴對的作用下發生電離，生成h2和o2.
tio2表面受光激發後，其表面與水的接觸面的反應用下列方程式表示：
tio2+hv→h++e-
式中e-為導帶上的光致電子； h+為tio2光致空穴。
h++h2o→h++·oh
o2+2e-+2h+→h2o2
ti4++e-→ti3+
o2+e-→o-2
h2o2+o-2→oh+oh-+o2
h++ oh-→oh·
h++e-→·h
h+·h→h2
式中，·oh為羥基自由基，·oh不穩定，具有很高的活性[6],其氧化能力比h2o2和o3強。但必須指出的是，並非位於價帶的電子能被光激發的半導體都能分解水。除了其禁頻寬度要大於水的分解電壓外，還有來自電化學方面的要求。
半導體的導帶電勢要比氫電極電勢eh+/h2稍負，而價帶電勢則應比氧電極電勢eo2/h2o稍正。理論上，半導體禁頻寬度》1·23ev就能進行光解水。但如果把能量損失考慮進去，最合適的禁頻寬度為2·0~2·2ev.
是文獻上的，如果你還想要文獻的更具體的東西話，告訴我你郵箱，我給你發過去。
水熱合成製備二氧化鈦時，催化劑表面的有機物如何去除
8樓：匿名使用者
水熱合成製備二氧化鈦時，催化劑表面的有機物如何去除。
水熱合成是指溫度為100～1000 ℃、壓力為1mpa～1gpa 條件下利用水溶液中物質化學反應所進行的合成。在亞臨界和超臨界水熱條件下，由於反應處於分子水平，反應性提高，因而水熱反應可以替代某些高溫固相反應。又由於水熱反應的均相成核及非均相成核機理與固相反應的擴散機制不同，因而可以創造出其它方法無法制備的新化合物和新材料。
一系列溫和與高溫高壓水熱反應的開拓及其在此基礎上開發出來的水熱合成路線，已成為目前獲取多數無機功能材料和特種組成與結構的無機化合物的重要途徑。在水熱合成體系中，已開發出多種新的合成路線與新的合成方法，如直接法、籽晶法、導向劑法、模板劑法、絡合劑法、有機溶劑法、微波法以及高溫高壓合成技術等。tio2水熱改變晶形，酸洗為了除去未反應完全的或者晶形不好的非晶體，最重得到形貌改變的晶體相。
二氧化鈦光催化反應機理
作用機理 zxl 001奈米二氧化鈦光催化反應機理 奈米tio2光催化降解機理共分為7個步驟來完成光催化的過程 1 tio2 hv e h 2 h h2o oh h 3 e o2 oo 4 oo h ooh 5 2ooh o2 h2o2 6 oo e 2h h2o27 h2o2 e oh oh 8 ...
奈米二氧化鈦和二氧化鈦有什麼區別嗎
奈米二氧化鈦在化妝品中的應用杭州萬景新材料 0571 8892 0936 紫外線是太陽光中對人體危害較大的一種光波。過度照射紫外線,會使 產生紅斑 黑斑,使 老化,嚴重的會引發 癌。近年來,隨著人們對紫外線認識的提高及保健意識的增強,防晒型化妝品的開發 應用逐漸成為一個科研熱點。奈米二氧化鈦 vk ...
奈米二氧化鈦和光觸媒什麼區別，奈米二氧化鈦如何製作光觸媒
1 奈米二氧化鈦是微顆粒 顆粒的大小以奈米為單位 與紫外光當然作用是 紫外線的吸收機理可能是 奈米二氧化鈦的電子結構是由價電子帶和空軌道形成的傳導帶構成的，當其受紫外線照射時，比其禁頻寬度 約為3.2ev 能量大的光線被吸收，使價帶的電子激發至導帶，結果使價電子帶缺少電子而發生空穴，形成容易移動且活...