掃描電鏡的原理,掃描電鏡的工作原理是什麼

時間 2021-09-12 05:15:22

1樓:小盆友哈哈哈嗝

成像原理

1.透射電鏡技術

透射電鏡是以電子束透過樣品經過聚焦與放大後所產生的物像,投射到熒光屏上或照相底片上進行觀察。透射電鏡的解析度為0.1~0.

2nm,放大倍數為幾萬~幾十萬倍。由於電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,必須製備更薄的超薄切片(通常為50~100nm)。其製備過程與石蠟切片相似,但要求極嚴格。

要在機體死亡後的數分鐘釣取材,組織塊要小(1立方毫米以內),常用戊二醛和餓酸進行雙重固定樹脂包埋,用特製的超薄切片機(ultramicrotome)切成超薄切片,再經醋酸鈾和檸檬酸鉛等進行電子染色。電子束投射到樣品時,可隨組織構成成分的密度不同而發生相應的電子發射,如電子束投射到質量大的結構時,電子被散射的多,因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像,電子**上則呈黑色,稱電子密度高(electrondense)。反之,則稱為電子密度低(electronlucent)。

2.掃描電鏡技術 掃描電鏡是用極細的電子束在樣品表面掃描,將產生的二次電子用特製的探測器收集,形成電訊號運送到映象管,在熒光屏上顯示物體。(細胞、組織)表面的立體構像,可攝製成**。

掃描電鏡樣品用戊二醛和餓酸等固定,經脫水和臨界點乾燥後,再於樣品表面噴鍍薄層金膜,以增加二波電子數。

電子顯微鏡下的纖維掃描電鏡能觀察較大的組織表面結構,由於它的景深長,1mm左右的凹凸不平面能清所成像,故放樣品影象富有立體感。

2樓:匿名使用者

簡單的說就是用電子打到樣品上,然後從熒光屏上讀去相應的資訊。打個比方好比是一股很細的水流在樣品表明上掃描,而飛濺出的水打到一面鏡子上,通過鏡子水流狀態的改變進而知道樣品的形狀。由於電子非常的小,所以解析度較高。

掃描電鏡的工作原理是什麼

3樓:哇哎西西

掃描電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理資訊。通過對這些資訊的接受、放大和顯示成像,獲得測試試樣表面形貌的觀察。

當一束極細的高能入射電子轟擊掃描樣品表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜x射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時可產生電子-空穴對、晶格振動(聲子)、電子振盪(等離子體)。

4樓:帥帥一炮灰

原理:掃描電鏡是對樣品表面形態進行測試的一種大型儀器。當具有一定能量的入射電子束轟擊樣品表面時,電子與元素的原子核及外層電子發生單次或多次彈性與非彈性碰撞,一些電子被反射出樣品表面,而其餘的電子則滲入樣品中,逐漸失去其動能,最後停止運動,並被樣品吸收。

在此過程中有99%以上的入射電子能量轉變成樣品熱能,而其餘約1%的入射電子能量從樣品中激發出各種訊號。這些訊號主要包括二次電子、背散射電子、吸收電子、透射電子、俄歇電子、電子電動勢、陰極發光、x射線等。掃描電鏡裝置就是通過這些訊號得到訊息,從而對樣品進行分析的。

5樓:

掃描電鏡通常至少有一個探測器(一般為二次電子探測器sei),很多都配有額外的探測器,如eds,bse,wds,ebsd,cl等等,但特定儀器的特殊功能強烈依賴於合適的探測器,同時探測器的安裝角度即樣品分析室的專業設計,對於分析效果影響重大。深入瞭解各種功能機理,才能獲得最佳的電子顯微分析質量。

市場掃描電鏡型號規格繁多,從經濟角度考慮,並非所有型號都設計成全能分析型。使用者須根據對樣品的觀察分析需要,選擇合適的掃描電鏡。

6樓:匿名使用者

電子槍發射的電子束,經過幾級電磁透鏡縮小後,電子束到達樣品,激發樣品中的二次電子,二次電子被探測器接收,通過訊號處理並調製顯示器上一個畫素髮光,由於電子束斑直徑是奈米級別,而顯示器的畫素是100微米以上,這個100微米以上畫素所發出的光,就代表樣品上被電子束激發的區域所發出的光。實現樣品上這個物點的放大。如果讓電子束在樣品的一定區域做光柵掃描,並且從時空上一一對應調製顯示器的畫素的亮度,便實現這個樣品區域微觀形貌的放大成像。

請問掃描電鏡的成像原理是什麼?

7樓:醉意撩人殤

掃描電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理資訊。通過對這些資訊的接受、放大和顯示成像,獲得測試試樣表面形貌的觀察。

當一束極細的高能入射電子轟擊掃描樣品表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜x射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時可產生電子-空穴對、晶格振動(聲子)、電子振盪(等離子體)。

8樓:匿名使用者

掃描電鏡的成像原理,和透射電鏡大不相同,它不用電磁透鏡來進行放大成像,而是象電視系統那樣,逐點逐行掃描成像

9樓:匿名使用者

用電子代替光進行成像,電子束打在樣品表面後激發樣品產生二次電子,收集該二次電子訊號再經電腦處理便得到影象。影象中亮的區域電子訊號較多,而暗的區域電子訊號較少。

掃描電鏡sem的主要原理是什麼?測試過程需要重點注意哪些操作

10樓:楓林狼

電鏡的原理是:電子槍發出電子束打到樣品表面,激發出二次電子、背散射電子、x-ray等特徵專訊號,經收集屬轉化為數字訊號,得到相應的形貌或成分資訊。

測試注意事項:

1、新人找別人幫忙測試時,

明確自己的測試內容,如何樣品前處理,測試時間,然後跟測試相關人員聯絡確定能否滿足你的測試需求

2、新人自己操作測試時,

明確自己的測試內容,如何樣品前處理,測試時間,測試時注意樣品乾燥潔淨,操作時樣品和樣品臺避免撞到探頭

tem和sem的工作原理差別?

11樓:勤奮的花大喵

掃描電子顯微鏡 sem(scanning electron microscope) 工作原理:

2023年發明的較現代的細胞生物學研究工具,主要是利用二次電子訊號成像來觀察樣品的表面形態,即用極狹窄的電子束去掃描樣品,通過電子束與樣品的相互作用產生各種效應,其中主要是樣品的二次電子發射。二次電子能夠產生樣品表面放大的形貌像,這個像是在樣品被掃描時按時序建立起來的,即使用逐點成像的方法獲得放大像。

透射電鏡tem (transmission electron microscope)工作原理:

是以電子束透過樣品經過聚焦與放大後所產生的物像, 投射到熒光屏上或照相底片上進行觀察。

一、掃描電子顯微鏡 sem(scanning electron microscope)的製造依據

掃描電子顯微鏡的製造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的人射電子轟擊物質表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜x射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。

同時,也可產生電子-空穴對、晶格振動 (聲子)、電子振盪 (等離子體)。原則上講,利用電子和物質的相互作用,可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的資訊,如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。

掃描電子顯微鏡正是根據上述不同資訊產生的機理,採用不同的資訊檢測器,使選擇檢測得以實現。如對二次電子、背散射電子的採集,可得到有關物質微觀形貌的資訊;對x射線的採集,可得到物質化學成分的資訊。正因如此,根據不同需求,可製造出功能配置不同的掃描電子顯微鏡。

二、透射電鏡tem (transmission electron microscope)的製造依據

透射電鏡的解析度為0.1~0.2nm,放大倍數為幾萬~幾十萬倍。由於電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,必須製備更薄的超薄切片(通常為50~100nm)。

其製備過程與石蠟切片相似,但要求極嚴格。要在機體死亡後的數分鐘釣取材,組織塊要小(1立方毫米以內),常用戊二醛和餓酸進行雙重固定樹脂包埋,用特製的超薄切片機(ultramicrotome)切成超薄切片,再經醋酸鈾和檸檬酸鉛等進行電子染色。

電子束投射到樣品時,可隨組織構成成分的密度不同而發生相應的電子發射,如電子束投射到質量大的結構時,電子被散射的多,因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像,電子**上則呈黑色。稱電子密度高(electron dense)。反之,則稱為電子密度低(electron lucent)。

12樓:清流異域

sem,全稱為掃描電子顯微鏡,又稱掃描電鏡,英文名scanning electronic microscopy. tem,全稱為透射電子顯微鏡,又稱透射電鏡,英文名transmission electron microscope.

區別:sem的樣品中被激發出來的二次電子和背散射電子被收集而成像. tem可以表徵樣品的質厚襯度,也可以表徵樣品的內部晶格結構。tem的解析度比sem要高一些。

sem樣品要求不算嚴苛,而tem樣品觀察的部分必須減薄到100nm厚度以下,一般做成直徑3mm的片,然後去做離子減薄,或雙噴(或者有厚度為20~40μm或者更少的薄區要求)。

tem可以標定晶格常數,從而確定物相結構;sem主要可以標定某一處的元素含量,但無法準確測定結構。

13樓:夏雨後的小彩虹

sem是掃描電鏡,所加電壓比較低,只是掃描用的,相當於高倍的顯微鏡tem是透射電鏡,所加電壓高,可以打透樣品,觀察內部結構stem是掃描透射,是掃描電鏡裡面的一個功能,可以說是山寨版的temstm是掃描隧道顯微鏡,具體功能不太清楚了。

掃描電鏡與透射電鏡的區別?

14樓:說了你會懂麼

1、結構差異:

主要體現在樣品在電子束光路中的位置不同。透射電鏡的樣品在電子束中間,電子源在樣品上方發射電子,經過聚光鏡,然後穿透樣品後,有後續的電磁透鏡繼續放大電子光束,最後投影在熒光螢幕上;掃描電鏡的樣品在電子束末端,電子源在樣品上方發射的電子束,經過幾級電磁透鏡縮小,到達樣品。當然後續的訊號探側處理系統的結構也會不同,但從基本物理原理上講沒什麼實質性差別。

2、基本工作原理:

透射電鏡:電子束在穿過樣品時,會和樣品中的原子發生散射,樣品上某一點同時穿過的電子方向是不同,這樣品上的這一點在物鏡1-2倍焦距之間,這些電子通過過物鏡放大後重新匯聚,形成該點一個放大的實像,這個和凸透鏡成像原理相同。這裡邊有個反差形成機制理論比較深就不講,但可以這麼想象,如果樣品內部是絕對均勻的物質,沒有晶界,沒有原子晶格結構,那麼放大的影象也不會有任何反差,事實上這種物質不存在,所以才會有這種儀器存在的理由。

掃描電鏡:電子束到達樣品,激發樣品中的二次電子,二次電子被探測器接收,通過訊號處理並調製顯示器上一個畫素髮光,由於電子束斑直徑是奈米級別,而顯示器的畫素是100微米以上,這個100微米以上畫素所發出的光,就代表樣品上被電子束激發的區域所發出的光。實現樣品上這個物點的放大。

如果讓電子束在樣品的一定區域做光柵掃描,並且從幾何排列上一一對應調製顯示器的畫素的亮度,便實現這個樣品區域的放大成像。

3、對樣品要求

(1)掃描電鏡

sem制樣對樣品的厚度沒有特殊要求,可以採用切、磨、拋光或解理等方法將特定剖面呈現出來,從而轉化為可以觀察的表面。這樣的表面如果直接觀察,看到的只有表面加工損傷,一般要利用不同的化學溶液進行擇優腐蝕,才能產生有利於觀察的襯度。不過腐蝕會使樣品失去原結構的部分真實情況,同時引入部分人為的干擾,對樣品中厚度極小的薄層來說,造成的誤差更大。

(2)透射電鏡

由於tem得到的顯微影象的質量強烈依賴於樣品的厚度,因此樣品觀測部位要非常的薄,例如儲存器器件的tem樣品一般只能有10~100nm的厚度,這給tem制樣帶來很大的難度。初學者在制樣過程中用手工或者機械控制磨製的成品率不高,一旦過度削磨則使該樣品報廢。tem制樣的另一個問題是觀測點的定位,一般的制樣只能獲得10mm量級的薄的觀測範圍,這在需要精確定位分析的時候,目標往往落在觀測範圍之外。

目前比較理想的解決方法是通過聚焦離子束刻蝕(fib)來進行精細加工。

掃描電鏡的工作原理是什麼,掃描電鏡sem的主要原理是什麼?測試過程需要重點注意哪些操作

環時芳縱戊 原理 掃描電鏡是對樣品表面形態進行測試的一種大型儀器。當具有一定能量的入射電子束轟擊樣品表面時,電子與元素的原子核及外層電子發生單次或多次彈性與非彈性碰撞,一些電子被反射出樣品表面,而其餘的電子則滲入樣品中,逐漸失去其動能,最後停止運動,並被樣品吸收。在此過程中有99 以上的入射電子能量...

掃描電鏡的工作原理是什麼,請問掃描電鏡的成像原理是什麼?

哇哎西西 掃描電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理資訊。通過對這些資訊的接受 放大和顯示成像,獲得測試試樣表面形貌的觀察。當一束極細的高能入射電子轟擊掃描樣品表面時,被激發的區域將產生二次電子 俄歇電子 特徵x射線和連續譜x射線 背散射電子 透射電子,以及在可見...

掃瞄電子顯微鏡的工作原理,掃瞄電鏡的工作原理是什麼

掃瞄電子顯微鏡的製造依據是電子與物質的相互作用。掃瞄電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃瞄,激發出各種物理資訊。通過對這些資訊的接受 放大和顯示成像,獲得測試試樣表面形貌的觀察。當一束極細的高能入射電子轟擊掃瞄樣品表面時,被激發的區域將產生二次電子 俄歇電子 特徵x射線和連續譜x...