1樓：匿名使用者
350公升藥水建議更換。主流的光鎳新增劑中的糖精鈉、吡啶衍生物用這種處理方法難以消除。當然你可以試一試更強的氧化劑（高錳酸鉀）。
2樓：匿名使用者
用瓦楞板小電流處理一天，處理掉大部分柔順劑，過濾後先做霍爾槽實驗，由於加了新增劑，工藝引數肯定變了，霍爾槽實驗才能幫你找準引數
3樓：匿名使用者
補充一下：氯離子最好也分析一下，氯離子濃度如果搞錯了，對應力也有很大影響。
4樓：匿名使用者
槽液不多，實在沒有辦法就倒了，重新配製就結了。
電鍍鎳發脆，怎麼辦？主鹽是氨基磺酸鎳
5樓：鬱熊熊
電鑄鎳最大的問題就是脆性和厚度不均。
不知道你做的電鑄是雷射、絲網、cd、還是標牌？
標牌電鑄的功能面是表面，就是用光亮鎳新增劑，否則就不亮。
雷射和有些電鑄用的是功能面，不需要表面光亮，那就不用加多少新增劑，即盡量少用新增劑。因為
幾乎所有的
新增劑都是
有機化合物
，對鍍層內應力多少有些增加。正常加一些
濕潤劑就夠了，有些工廠也加了少量糖精改善結晶。
我想知道的是之前你們電鑄是否正常，還是剛剛開始做電鑄結果開缸失敗？
這裡無法判斷直接原因，提供一些建議供你參考：
1、你除了
柔軟劑濕潤劑是否還加過
光亮劑？上面兄弟講過的
雙氧水是否處理徹底？建議加3ml/l雙氧水再公升溫電解，5g/l活性炭吸附
，新增劑過多可能是最重要因素。
2、氯化鎳
的濃度是否過高？有些電鍍甚至不加氯化鎳。要保證陽極是含硫陽極。氯化鎳盡可能低（不超過10克）。
3、電流是否有緩衝？一般緩衝時間約1個小時，即整流器軟啟動
。最大電流
不要太高。
4、鎳離子和溫度稍高一些好，鎳離子高應力小，溫度高一些藥水導電好一些，工作電壓低。
6樓：匿名使用者
降低氯化鎳含量，一直降到不發脆為止，應該在15克左右吧。脆性大跟氯化鎳有關係。
怎麼去除鍍鎳電鍍水中的光亮劑，主鹽是氨基磺酸鎳鍍鎳
7樓：匿名使用者
採用高錳酸鉀處理.
先將鍍液加溫到60度,用稀硫酸調ph 值至2. 0-2. 5, 將高錳酸鉀(約0.
3-1.0g/l) 用熱水溶解,在強烈攪拌下間歇式加入鍍液, 加溫至攪拌約30min, 再加入5g/l活性炭處理2hr,靜置4hr過濾,以碳酸鎳將ph調整至作業範圍, 再施行弱電解至少4hr.
8樓：匿名使用者
很難，很難，難。。。
活性炭也是很難打乾淨的，重配吧
9樓：元寶鄧
用氫氧化鈉8%比例,雙氧水30%,活性碳8g/l過濾
電鍍氨基磺酸鎳
10樓：匿名使用者
氨基磺酸鎳溶解度可達180g/l(鎳金屬含量), 理論上在室溫不易析出, 倒是硼酸的溶解度很低, 溶液在室溫下析出結晶.
氨基磺酸鎳電鍍出現燒糊症狀，有人幫我解決嗎？
11樓：胡楊之
你的電鍍方抄式應該是掛鍍，襲氨基磺酸鹽鍍鎳一般金屬鎳濃度在60-80g/l，溫度50-60℃，掛鍍可以施加的電流密度在0-12a/dm2，如果藥水溫度不夠，主鹽濃度不夠，新增劑濃度不夠，電流密度太高，掛具四周工件的尖端朝外，都可能產生燒焦現象。你查檢視現有操作條件，是哪個環節出了問題。如有疑問，可以再追問。
請問在氨基磺酸鎳為主鹽的電鍍水裡加入氯化鉀會有什麼影響
12樓：匿名使用者
氯化鉀的作用就是導電鹽，引入氯離子和鉀離子，增加鍍液的導電能力，氯化鉀的作用和氯化鈉的作用基本相似，但是鈉離子增加後會增大鍍層的硬度，使用氯化鉀。再乙個是氯化鉀比氯化鎳便宜，在鍍液消耗很大的情況下，成本控制是個很重要的問題，所以不新增氯化鎳。
產生針孔的原因多種多樣，我做電鍍也滿多年了，沒有看見過含有氯化鉀減少針孔的報道啊。就我所知氯化鉀主要是用在鍍鋅上，鍍鋅產生針孔的現象也是很多的。
氨基磺酸鎳鍍鎳，上鎳速度慢是什麼原因？
13樓：匿名使用者
首先確認電流錶讀數是否準確
排除漏電引起的漏鍍
清洗並補充陽極鎳，並觀察釋氫情況，嚴重則ph，主鹽或酸濃度可能有問題檢查ph範圍是否正常，並調節至正常狀態，補充適量氨基磺酸鎳
14樓：含硫鎳餅
是不是該加氨基磺酸鎳了
我之前用氨基磺酸鎳鍍鎳什麼都不加 直接下主鹽和氯化鎳和硼酸就可以鍍 了但就是不光亮 現在工件要鍍光亮
15樓：匿名使用者
找氨基磺酸鍍鎳新增劑的**商買光亮劑，比如安美特、樂思等。
16樓：匿名使用者
要氨鎳專用的光劑 軟劑 濕潤劑這些都不能加多了 要控制量 雜質也要常處理
17樓：潮利
我以前做過幾年做的是印刷類的光亮鍍鎳，就只是加點糖精就行了，一次加個3-5粒，標準是0.5g/l,切忌勿加太多，加多了會很麻煩的
請問在電鍍鎳過程中，析出一種無色的晶體，這種晶體是什麼？主鹽為氨基磺酸鎳，溫度較低時析出。謝謝了！ 20
18樓：官渡人
多數都是硼酸結晶,特別是溫度低的時候(稍加熱就能溶解)
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